Visió general del producte
Aquesta és una eina bàsica de procés dissenyada específicament per fabricar un forn d'oxidació humit (dispositius làser d'emissió de-cavitat vertical-vertical (VCSEL)). Està dissenyat per atendre les necessitats del procés de dispositius optoelectrònics i semiconductors-mitjançant tecnologia d'oxidació d'oxigen humit personalitzada, crea capes de confinament òptic denses i estructures d'aïllament elèctric en VCSEL. A més, també funciona per a la passivació general de la superfície de les hòsties, donant suport al procés clau per augmentar el rendiment del dispositiu.
El gran avantatge del forn d'oxidació humit és un control d'alta-precisió: la uniformitat de la temperatura és de primera-, la regulació del vapor d'aigua és fàcil i la consistència d'oxidació és sòlida. Això vol dir que compleix els estrictes requisits d'estabilitat dels processos que exigeixen els dispositius VCSEL-. També està dissenyat amb un sistema fiable, funciona de manera constant i s'adapta perfectament als escenaris de procés de precisió per a la producció de dispositius optoelectrònics. Tant si es tracta d'-R+D per lots petits a institucions de recerca com de producció a gran-escala a les empreses, satisfà aquestes necessitats diverses-proporcionant suport d'equips fiables per a avenços tecnològics i desplegaments de capacitat en camps relacionats amb VCSEL-, com ara la comunicació òptica, la detecció, el lidar i molt més.
Aplicaciós
- Fabricació de dispositius VCSEL: com a eina bàsica per a la producció de làser VCSEL, crea denses capes de confinament òptic i estructures d'aïllament elèctric mitjançant processos d'oxidació d'oxigen humit a mida. Admet la creació de-VCSEL d'alt rendiment utilitzats en comunicacions òptiques, detecció 3D d'electrònica de consum, lidar d'automòbils i altres camps.
- Passivació de superfície d'hòsties: funciona amb processos universals de passivació de superfície d'hòsties per a dispositius optoelectrònics i semiconductors. Optimitza l'estat de la superfície de l'hòstia, augmentant la fiabilitat i la vida útil dels fotodetectors i sensors de semiconductors.
- R+D de materials optoelectrònics avançats: ofereix una plataforma experimental estable i precisa per a institucions de recerca. Admet l'exploració dels paràmetres del procés d'oxidació humida per a nous materials optoelectrònics (com ara materials avançats basats en arsenur de gal-) i ajuda a avançar en R+D-de tecnologia optoelectrònica d'avantguarda.
Avantatges
Control de procés d'alta-precisió: ofereix una excel·lent uniformitat de temperatura, un ajust fàcil del vapor d'aigua i una consistència d'oxidació fiable. Això garanteix la uniformitat estructural dels dispositius VCSEL i evita variacions de rendiment causades per les fluctuacions del procés.
Alta fiabilitat del sistema: compta amb una estructura estable i un sistema de control madur per a un funcionament constant a llarg termini{0}. Compleix les demandes de precisió del procés dels dispositius optoelectrònics i redueix el temps d'inactivitat per fallades dels equips.
Forta compatibilitat amb processos: se centra en l'oxidació humida VCSEL alhora que admet tractaments de passivació universals. S'adapta a la producció i R+D de diversos productes, millorant la utilització dels equips.
Garantia d'alt rendiment: millora l'aïllament elèctric dels dispositius VCSEL i els efectes de confinament del camp de llum mitjançant un control estable de la temperatura, una regulació precisa del vapor d'aigua i processos optimitzats-reduint les taxes de defectes de manera eficaç.
Paràmetres
|
Mida de l'hòstia |
4-6 polzades |
|
Interval de temperatura |
300 graus -500 graus |
|
Procés aplicable |
VCSEL oxidació humida |
|
Precisió del control de temperatura |
Menor o igual a ±0,5 graus |
|
Zona plana |
250 mm |
|
Uniformitat de l'oxidació |
R Menor o igual a 1μm |
PMF
Aquest equip només s'utilitza per a la fabricació de forns d'oxidació humit?
No, no es limita a això. A més del procés d'oxidació humida del dispositiu VCSEL bàsic, també és compatible amb tractaments generals de passivació de superfícies d'hòsties per a dispositius optoelectrònics i semiconductors, adaptant-se a la producció i R+D de diversos productes.
Quina precisió són els paràmetres de regulació de la temperatura i la humitat pel que fa al control del procés?
Excel·lent uniformitat de temperatura, regulació convenient de la humitat i bona consistència d'oxidació. Assegura amb precisió la uniformitat de la capa de confinament òptic i l'estructura d'aïllament elèctric dels dispositius VCSEL, evitant els impactes de rendiment de les fluctuacions del procés.
Què tan estable és el funcionament de l'equip i pot satisfer les necessitats de producció en massa o d'{0}}R+D a llarg termini?
Adoptant una estructura estable i un sistema de control madur, pot funcionar de manera estable durant períodes prolongats, reduint el temps d'inactivitat a causa de mal funcionament. Compleix els requisits de producció en massa contínua de les empreses i les necessitats experimentals a llarg termini-de les institucions de recerca.
Pot donar suport a l'exploració de processos per a nous materials optoelectrònics?
Sí, proporciona una plataforma experimental estable i precisa per a les institucions de recerca, que dóna suport a l'exploració de paràmetres del procés d'oxidació humida de nous materials optoelectrònics, com ara materials millorats basats en arsenur de gal·{0}}, contribuint a la-R+D de tecnologia d'avantguarda.
Hi ha requisits específics per a la mida de les hòsties?
S'adapta principalment a les especificacions comunes de les hòsties de VCSEL i dispositius relacionats. Concretament, pot proporcionar solucions d'adaptació personalitzades segons els requisits de mida de les hòsties de la producció o R+D real dels usuaris.
Etiquetes populars: forn d'oxidació humit, fabricants, proveïdors de forn d'oxidació humit de la Xina
