-
![Sistema IBE]()
Sistema IBEEl nostre sistema Ion Beam Etching (IBE) és un equip de processament de materials d'alta-precisió dissenyat per a la indústria de la micro-nanofabricació. Utilitza un feix d'ions enfocat i controlable per dur a terme un gravat físic a...veure més -
![Sistema de conformació del feix invers]()
Sistema de conformació del feix inversNice-Tech ofereix sistemes RIBS de 8 polzades i 12 polzades, que combinen la pulverització física (de l'IBS tradicional) amb gasos reactius per obtenir un model de material precís.veure més -
![Sistema de conformació de feix d'ions]()
Sistema de conformació de feix d'ionsLeuven Instruments ofereix sistemes IBS de 8 polzades (IBS-8) i 12 polzades (IBS-12), ambdós basats en sputtering físic: els ions positius de la font d'ions s'acceleren, neutralitzen i bombardegen la superfície de la mostra per formar...veure més -
![Sistema de gravat de màscara dura]()
Sistema de gravat de màscara duraMHS 100, desenvolupat per Leuven Instruments, és un sistema de gravat de màscara de metall dedicat per a la indústria de circuits integrats de 12-polzades. Consta de càmeres de gravat ICP i un mòdul de transferència, centrat en...veure més -
![Sistema de gravat de-capa de metall dur]()
Sistema de gravat de-capa de metall durDesenvolupat per Nice-Tech, el MSE 100 és un sistema integrat de 12 polzades dissenyat específicament per al gravat especial de piles metàl·liques; el seu objectiu principal és donar suport als escenaris de fabricació de dispositius de...veure més -
![Sistema de gravat metàl·lic]()
Sistema de gravat metàl·licNice-Tech ofereix dos sistemes de gravat de metalls de producció massiva-per a diferents mides d'hòsties, ambdós basats en la tecnologia ICP i adaptats per al processament de metalls IC back-(BEOL).veure més -
![Sistema de gravat de silici]()
Sistema de gravat de siliciNice-Tech ofereix dos sistemes de gravat de silici dedicats per a diferents mides d'hòsties, tots dos basats en la tecnologia ICP i adaptats per a la producció massiva d'IC.veure més -
![ICP Deep Si Etcher]()
ICP Deep Si EtcherAquest sistema ICP-DSE de 8-polzades és un gravador de-producció massiva per al processament de silici-aspecte- alt. Integra una potència ICP de freqüència dual-(2MHz+13.56MHz), el nostre mòdul de commutació ràpida de gas patentat i...veure més -
![8" ICP Etcher]()
8" ICP EtcherAquest sistema de gravat ICP de 8-polzades és un dispositiu de grau-producció-en massa per a fabricants de circuits integrats mitjans/petits i processos especialitzats. Amb una font ICP d'alta-estabilitat, transferència de buit de...veure més -
![6" CCP Etcher]()
6" CCP EtcherL'eina de gravat CCP de 6-polzades per a producció petita-a-mitjana i R+D. Utilitzant la tecnologia CCP, la seva única cambra genera plasma per gravar materials; els subproductes volàtils s'eliminen mitjançant el buit. Funciona amb...veure més -
![Cu And Ti Etcher]()
Cu And Ti EtcherL'equip integrat de gravat de Cu-Ti de la sèrie SE tracta de gravat en humit especialitzat per a envasos avançats de semiconductors, dissenyats per manejar hòsties de 8 a 12 polzades sense problemes. És una solució de gravat metàl·lic...veure més -
![RIE Etcher]()
RIE EtcherLes màquines de gravat d'ions reactius (RIE) són eines de gravat en sec d'alt rendiment-constituïdes al voltant de la tecnologia de descàrrega de radiofreqüència. El seu truc bàsic? Combinant el bombardeig físic amb reaccions químiques...veure més
Com un dels fabricants i proveïdors de màquines de gravat més professionals de la Xina, ens presentem productes de qualitat i bon preu. Si us plau, tingueu la seguretat de comprar una màquina de gravat personalitzada de la nostra fàbrica. Per a la cotització i la llista de preus, poseu-vos en contacte amb nosaltres ara.
