Visió general del producte
Els evaporadors de feix d'electrons de Nice-tech són una sèrie d'equips-d'alt rendiment PVD (deposició física de vapor) desenvolupats per a diverses necessitats de producció industrial i investigació científica. La línia de productes inclou diversos models com ara EBE 700, EBE 600 / EBE 600P, EBE 500, EBE 400, EBE 300 / EBE 300 / EBE 300 / EBE 300 / EBE 300 / EBE 300 / EBE 300 / EBE 300 / EBE 400 200P, EBE 100. Cada sistema integra tecnologia de recobriment al buit avançada i components bàsics-de classe mundial (de marques com Edwards, Pfeiffer i MKS), combinats amb el sistema de control totalment automàtic VKOS de desenvolupament propi, que garanteix una deposició de pel·lícula estable, fiable i eficient.
La sèrie de productes inclou dissenys estructurals flexibles-incloent-hi una-cambra, una-cambra doble i configuracions compactes-per adaptar-se a diferents requisits d'espai i procés. Destaquen els indicadors clau de rendiment: una uniformitat de recobriment tan precisa com ±2% (la majoria dels models) i ±3% (models compactes), buit final que arriba a 1E-5Pa a 2E{-5Pa i intervals de control de temperatura que van des de -50 graus a 500 graus (o RT fins a 500 graus) per satisfer les necessitats de deposició de diversos materials. Tant si es tracta de producció massiva a nivell d'hòsties, preparació complexa de pel·lícules multicapa o verificació d'R+D de laboratori, els sistemes d'evaporació del feix d'electrons de Vikaitech ofereixen solucions a mida.
Avantatges
- Qualitat de pel·lícula superior i alta consistència
- Models diversificats per a necessitats específiques
- Alta automatització i fàcil manteniment
- Forta compatibilitat i personalització
- Configuracions centrals fiables
Aplicacions
- Semiconductors i Microelectrònica
- Optoelectrònica i comunicació òptica
- Detecció aeroespacial i infraroja
- Biomedicina i nous materials
- Producció industrial en massa
- Investigació Científica i Universitats
Paràmetres
|
Item |
EBE 700 (tipus de producció en massa-alta) |
EBE 600/ EBE 600P (tipus de cambra-dual de producció) |
EBE 500 (tipus universal de doble cambra-) |
EBE 400 (Tipus de cambra dual-R+D) |
EBE300 /EBE 300P (Producció Tipus de-cambra única) |
EBE 200 /EBE 200P (tipus universal de cambra única-) |
EBE 100 (tipus compacte) |
|
Uniformitat del recobriment |
±2% |
±3% |
|||||
|
Repetibilitat del recobriment |
±2% |
||||||
|
El buit definitiu |
2E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
2E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
|
Interval de control de temperatura |
RT ~ 200 graus |
RT ~ 300 graus |
RT ~ 500 graus |
RT ~ 500 graus |
RT ~ 300 graus |
RT ~ 500 graus |
-50 graus ~ 500 graus |
|
Zona de deposició uniforme |
Nivell-hòstia (8 polzades i més per a la producció en massa) |
Peces de -mida gran (menys o igual a 1000 mm × 1000 mm) |
Mida universal (apte per a producció i R+D) |
Peces de lots petits-a-mitjans (R+D i producció a-petita escala) |
Peces de -mida gran (menys o igual a 1000 mm × 1000 mm) |
Ø màxim 300 mm (hòstia/peça de treball) |
Mida petita a escala-de laboratori (menys o igual a Ø150 mm) |
|
Tipus de cambra |
Cambra única (nivell d'hòstia-totalment automàtic) |
Doble cambra (tipus de producció, cambra de procés independent) |
Cambra dual (tipus universal, bloqueig de càrrega mútua) |
Cambra dual (tipus d'R+D, bloqueig de càrrega de la càmera superior-inferior) |
Cambra única (tipus de producció, cambra gran) |
Cambra única (tipus universal, cambra estàndard) |
Cambra única (tipus compacte, cambra petita) |
|
Sistema de càrrega |
Transferència automàtica d'hòsties |
Transferència automàtica de robots |
Bloqueig de càrrega automàtic d'hòsties simples o múltiples- |
Bloqueig de càrrega automàtic d'hòsties simples o múltiples- |
Transferència automàtica de robots |
Càrrega manual/semi-automàtica |
Càrrega manual (portàtil) |
|
L×W×H(m) |
8.5×5.5×3.3 |
4.4×4.1×2.6 |
4.0×3.1×2.9 |
3.0×2.5×2.2 |
4.05×3.9×2.8 |
3.35×2.8×2.2 |
3.15×2.4×2.2 |
|
Pes net (aprox.) |
12000 kg |
8500 kg |
6800 kg |
4200 kg |
7200 kg |
5500 kg |
3800 kg |
PMF
P: Quina és l'aplicació bàsica?
R: Deposició de pel·lícules primes d'alta-precisió-per a R+D de semiconductors, optoelectrònica, aeroespacial, biomedicina i nous materials.
P: Quins materials són compatibles?
A: Metalls (Al, Au), dielèctrics (SiO₂), semiconductors, compostos, ceràmica; T360 optimitzat per a la deposició d'indi.
P: Especificacions clau de rendiment?
R: Uniformitat del recobriment ± 2% (models de producció)/± 3% (R+D/compacte); repetibilitat ± 2%; buit final 1E-5Pa ~ 2E-5Pa.
P: Es poden actualitzar les configuracions?
R: Sí-afegiu fonts d'ions, càmeres de pre-buit, accessoris o bloquejos de càrrega automàtics (depenent del model-).
P: Instal·lació i formació incloses?
R:-Instal·lació/posada en funcionament + formació en funcionament/manteniment; guia remota disponible.
Etiquetes populars: Evaporador de feix d'electrons, fabricants d'evaporadors de feix d'electrons de la Xina, proveïdors
